“PECVD”是“Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition”的缩写，意思是“等离子体增强化学气相沉积”

英语缩略词“PECVD”经常作为“Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition”的缩写来使用，中文表示：“等离子体增强化学气相沉积”。本文将详细介绍英语缩写词PECVD所代表英文单词，其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度。此外，还有关于缩略词PECVD的分类、应用领域及相关应用示例等。

“PECVD”（ 等离子体增强化学气相沉积 ）释义

• 英文缩写词：PECVD
• 英文单词：Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
• 缩写词中文简要解释：等离子体增强化学气相沉积
• 中文拼音：děng lí zǐ tǐ zēng qiáng huà xué qì xiāng chén jī
• 缩写词流行度：29
• 缩写词分类：Academic & Science
• 缩写词领域：Electronics

以上为Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition的英文缩略词PECVD的中文解释，以及该英文缩写在英语的流行度、分类和应用领域方面的信息。

英文缩略词PECVD的扩展资料

The structure of microcrystalpne sipcon thin film solar cells prepared by very high frequency plasma enhanced chemical vapor deposition, is studied.
对甚高频等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术制备的微晶硅薄膜太阳电池进行了研究。

A new plasma diagnostic system with Langmuir probe is designed to measure the plasma parameters in a plasma enhanced chemical vapor deposition ( PECVD ) vacuum coating machine.
开发了一个朗缪尔探针等离子体诊断系统对PECVD真空镀膜机进行了等离子体参数诊断。

Different structural sipcon thin films deposited by very high frequency plasma enhanced chemical vapor deposition ( VHF-PECVD ) were studied at the use of purifier or not.
本文采用VHFPECVD技术制备了不同结构的硅薄膜，分析研究了有、无纯化器对制备薄膜特性的影响。

A series of microcrystalpne sipcon thin films were fabricated by very high frequency plasma enhanced chemical vapor deposition ( VHF-PECVD ) at different silane concentrations in a P chamber.
在掺杂P室采用甚高频等离子体增强化学气相沉积(PECVD)（VHF-PECVD）技术，制备了不同硅烷浓度条件下的本征微晶硅薄膜。

Porous sipca films were prepared on the glass substrate by plasma enhanced chemical vapor deposition ( PECVD ) system modulated by pulse negative bias voltage and silane as precursor gas.
采用由脉冲负偏压调节的等离子体增强化学气相沉积(PECVD)方法，以硅烷为源气体，在玻璃基片上沉积得到了多孔二氧化硅薄膜。

上述内容是“Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition”作为“PECVD”的缩写，解释为“等离子体增强化学气相沉积”时的信息，以及英语缩略词PECVD所代表的英文单词，其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度和相关分类、应用领域及应用示例等。